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[반도체Engineering] 반도체 사진공정

페이지 정보

작성일 23-02-06 14:56

본문

목차

Mask

설명
Introduction
레포트 > 공학,기술계열

4. Resolution in Photolithography

In the IC industry, pattern transfer from masks onto thin films is accomplished almost exclusively via photolithography

Hard surface MASK
반도체공정, 사진공정, Photolithography
Types of MASK

Emulsion MASK

3. Resist Profile
순서
본문내용
1. Photolithograpy overview
6. Emerging Lithography
Made by Cr, FeO on glass

1. Photolithography Overview
[반도체Engineering] 반도체 사진공정
The stencil used to repeatedly generate a desires pattern on resist- coated wafers is called a mask
Semi-Permanence(3 ~ 5 times), Cheapness

5. Next-Generation lithography

7. Example
반도체 공정 중 사진공정에 대한 theory(이론)과 방법에 대해 상세히 요약하여 이해와 자료(data) 정리에 도움이 되는 확실한 자료(data)임.
Permanence, Expensive

Download : 사진공정.ppt( 25 )

Made by thin gelatin file on thin glass

반도체 공정 중 사진공정에 대한 이론과 방법에 대해 상세히 요약하여 이해와 자료 정리에 도움이 되는 확실한 자료임.
2. Critical Dimension, Overall Resolution

다.

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2086	效果적인 국제경영전략(戰略) 을 수립하기 위한 대안에 대해 논의함

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2100

한우 전공실습(한우 사양관리 실습)

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2021년 2학기 장애인상담과교육 기말시험 Task 물(장애유형에 대한 지원 프로그램 조사)

2098

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2097

지장물reality(실태) 조사서 (7쪽)

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